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J-GLOBAL ID:201102271972905473   整理番号:11A1818144

Au(hkl)表面へのイオン及びラジカルの吸着 DFT研究

Ionic and radical adsorption on the Au(hkl) surfaces: A DFT study
著者 (4件):
資料名:
巻: 606  号: 1-2  ページ: 69-77  発行年: 2012年01月 
JST資料番号: C0129B  ISSN: 0039-6028  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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低Miller指数のAu(hkl)表面の数種類のイオン及び非イオン種(OH-,O,O-,O-2,H,H+及びH-)の吸着を密度汎関数理論に基づく方法により調べた。三表面の吸着に対する安定性順位は各表面の最も外側の金原子の配位数の増加,すなわちAu(110)>Au(100)>Au(111)とともに低くなり,実験的証拠と一致した。最も安定な吸着を示す表面,Au(110),における全ての吸着種のいろいろな吸着サイトの詳細な結晶軌道重なり率(COOP)分析の結果,金表面の吸着は粒子のサイズ及び電荷の関数であり,これらの低Miller指数のAu(hkl)表面で見られるいろいろな種の吸着に対する優先サイトの順序の変化を実証した。この変化は金表面の吸着安定性の増加とともに大きくなった,すなわちAu(110)が異なった種の吸着に対する優先サイトの順序でより大きな変化を示した。Copyright 2011 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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吸着の電子論  ,  金属の表面構造 

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