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J-GLOBAL ID：201102272054458592   整理番号：11A0491180

アルミニウム基板における薄い酸化膜の成長に対する数値シミュレーション

Numerical Simulations on the Growth of Thin Oxide Films on Aluminum Substrates

著者 (5件)： PERRON A. (Univ. Bourgogne, Dijon, FRA) ,  GARRUCHET S. (Univ. Bourgogne, Dijon, FRA) ,  POLITANO O. (Univ. Bourgogne, Dijon, FRA) ,  ARAL G. (Izmir Inst. Technol., Izmir, TUR) ,  VIGNAL V. (Univ. Bourgogne, Dijon, FRA)
資料名： Defect and Diffusion Forum  (Defect and Diffusion Forum)
巻： 297/301[2]  ページ： 954-959  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0958B  ISSN： 1012-0386  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (4件)： アルミニウム ,  酸化膜 ,  成長 ,  数値シミュレーション