文献

J-GLOBAL ID：201102272281937588   整理番号：11A0782600

光触媒とカチロンを用いたニッケル円筒の研磨現象について-紫外線励起加工の研究-

著者 (1件)： 田中武司 (立命館大)
資料名： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
巻： 77  号： 4  ページ： 422-427  発行年： 2011年04月05日 
JST資料番号： F0268C  ISSN： 0912-0289  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究では紫外線励起下で化学研磨と機械研磨を同時に行う加工方式を,サブマイクロの加工レベル下で確立するため,強い光励起反応下の室温でニッケル円筒面の研磨現象について検証した。これにより得た主な知見を次に示した。1)二酸化チタンとカチロンを用い,紫外線を照射すると,化学研磨と機械研磨が同時に作用した平滑な研磨面を得られること,2)カチロンが多い場合,研磨面の腐蝕痕は大きくなること,3)二酸化チタンをカチロンに対して多くしても,腐食によるざらつきが大きくなり,平滑な表面は得られないこと,4)二酸化チタンを多くしカチロンも多くすると,より平滑な研磨面が得られること。

シソーラス用語： *ニッケル ,  *円筒 ,  *紫外線照射 ,  酸化チタン ,  *蛍光染料 ,  化学研磨 ,  表面処理 ,  *研磨 ,  量子化学 ,  研磨面 ,  *光触媒 ,  *光ポンピング ,  *金属表面 ,  二酸化チタン ,  *機械工作

分類 (2件)： 特殊加工  (QC04000Y) ,  その他の表面処理  (WC08070F)

引用文献 (7件)：

• 1) T. Ohyoshi, H. Unpou, Y. Isono and T. Tanaka : Study of Ultraviolet—Ray Aided Machining (1^stReport) — Verification of Basic Principal and Phenomena, JSPE Kansai District Meeting (1999), 31 (in Japanese).
• 2) Y. Chiwaya and T. Tanaka : Fundamental Verification of Ultraviolet-Excited Abrasion and Polishing Characteristics of Copper-Study of Luminescence Machining, Key Engineering Materials, 291-292 (2005) 343.
• 3) T. Tanaka : Polishing of Nickel Cylinder using A Photocatalyst and A Fluorescent Substance Excited by An Ultraviolet Ray, Advanced Materials Research, 76-78 (2009) 337.
• 4) A. Fujishima, K. Hashimoto and T. Watanabe : Photocatalyst Mechanism, Nihon Jitsugyou Publisher (2004), 115 (in Japanese).
• 5) K. Takeuchi, S. Murasawa and T. Sijyuku : World of Photocatalyst, Kougyouchousakai Publisher (1998), 31 (in Japanese).

タイトルに関連する用語 (7件)： 光触媒 ,  ニッケル ,  研磨 ,  現象 ,  紫外線 ,  励起 ,  研究