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J-GLOBAL ID：201102273539640280   整理番号：11A0897263

FドープナノサイズTiO_2薄膜の低温合成及び光触媒性能

Low-Temperature Preparation and Photocatalytic Performance of F-Doped Nanosized TiO_2 Thin Film

著者 (4件)： CHEN Yanmin (East China Univ. of Sci. and Technol., Shanghai) ,  ZHONG Jing (East China Univ. of Sci. and Technol., Shanghai) ,  CHEN Feng (East China Univ. of Sci. and Technol., Shanghai) ,  ZHANG Jinlong (East China Univ. of Sci. and Technol., Shanghai)
資料名： Cuihua Xuebao  (Cuihua Xuebao)
巻： 31  号： 1  ページ： 120-125  発行年： 2010年 
JST資料番号： B0927B  ISSN： 0253-9837  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： FドープTiO_2(FTO)ゾルをふっ素源としてNH_4Fを用いる水熱法によって合成した。次いで,FTO薄膜をディップ-コーティングを経て合成した。120°C×10h水熱的に処理したTiO_2ゾルから合成したTiO_2薄膜は,好ましい透明性及び高い光触媒活性を有していた。FのドーピングはTiO_2の粒子サイズを著しく変化しなかったが,TiO_2膜の光触媒活性を大きく増強した。Fの最適ドーピング濃度は0.01F/Tiモル比に相当した。FTO薄膜の光触媒活性は,TiO_2薄膜より23%高かった。X線光電子分光法の結果,FTO薄膜中にF元素の2種類の形:表面化学的に吸着されたF及び置換基格子Fが存在することが判明した。表面吸着F及び置換基格子Fの双方がFTO薄膜の光触媒活性の増強に於いて役割を演じた。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

シソーラス用語： フッ素 ,  ドーピング ,  長さ ,  *薄膜 ,  化学合成 ,  光触媒 ,  性能 ,  水熱合成 ,  活性
準シソーラス用語： F ,  ドープ ,  ナノサイズ ,  低温合成 ,  触媒性能 ,  水熱法 ,  光触媒活性

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (3件)： 薄膜 ,  低温合成 ,  触媒性能