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J-GLOBAL ID：201102274559457607   整理番号：11A1034251

斜め蒸着技術によるZnSナノコラム薄膜の作製と透過率

Preparation and Transmissivity of ZnS Nanocolumn Thin Films with Glancing Angle Deposition Technology

著者 (8件)： LU Li-fang (Optical Information Beijing Jiaotong Univ., Beijing) ,  XU Zheng (Optical Information Beijing Jiaotong Univ., Beijing) ,  ZHANG Fu-jun (Optical Information Beijing Jiaotong Univ., Beijing) ,  ZHAO Su-ling (Optical Information Beijing Jiaotong Univ., Beijing) ,  SONG Dan-dan (Optical Information Beijing Jiaotong Univ., Beijing) ,  LI Jun-ming (Optical Information Beijing Jiaotong Univ., Beijing) ,  WANG Yong-sheng (Optical Information Beijing Jiaotong Univ., Beijing) ,  XU Xu-rong (Optical Information Beijing Jiaotong Univ., Beijing)
資料名： Guangpuxue yu Guangpu Fenxi  (Guangpuxue yu Guangpu Fenxi)
巻： 30  号： 2  ページ： 504-507  発行年： 2010年 
JST資料番号： C2093A  ISSN： 1000-0593  CODEN： GYGFED  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： ナノ結晶ZnS薄膜を電子ビーム蒸着システムの斜め蒸着(GLAD)技術で作製した。堆積は,ベースプレッシャー3×10(-4)Paのカスタムメイド真空チャンバで実行されたが,蒸着速度が0.2nms(-1)に固定された。入射分子流動に対して基板の斜め角度を0°,80°,85°に設定して,酸化インジウムスズ(ITO)基板の一部にZnS薄膜を堆積した。X線回折(XRD)スペクトルと走査型電子顕微鏡(SEM)画像から,ZnSナノ結晶薄膜が異なる斜め角度で基板上に形成されるが,ナノ柱状構造がα=80°と85°の状況下でつくられるだけだった。α=0°,80°,85°でのZnS薄膜の蒸着プロセスの動力学を解析した。ITO基板上に堆積したZnS薄膜の透過スペクトルは,ZnSナノ柱状構造薄膜が可視域で透過率が増強されることを示した。ZnSナノコラムはELデバイスに利用できて,デバイスの発光効率を強化する。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

シソーラス用語： 酸化インジウムスズ ,  走査電子顕微鏡 ,  電子ビーム蒸着 ,  真空蒸着 ,  ナノ構造 ,  柱状晶 ,  堆積速度 ,  *ナノ結晶 ,  エネルギー変換効率 ,  X線回折 ,  *硫化亜鉛 ,  *半導体薄膜 ,  透過率
準シソーラス用語： カスタムメイド ,  ナノコラム ,  斜め蒸着 ,  蒸着速度 ,  真空チェンバ ,  走査型電子顕微鏡 ,  柱状構造 ,  透過スペクトル ,  発光効率

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (6件)： 斜め蒸着 ,  ZnS ,  ナノコラム ,  薄膜 ,  作製 ,  透過率