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J-GLOBAL ID：201102275909905086   整理番号：11A0002404

UV光照射によるシリル化酸化黒鉛薄膜の低温還元

著者 (2件)： 岩佐健士郎 (兵庫県大 大学院) ,  松尾吉晃 (兵庫県大 大学院)
資料名： 炭素材料学会年会要旨集
巻： 37th  ページ： 248-249  発行年： 2010年11月30日 
JST資料番号： X0940A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *紫外線照射 ,  層状化合物 ,  *シリル化 ,  水銀ランプ ,  ナノ構造 ,  波長依存性 ,  シート抵抗 ,  結合エネルギー ,  ナノシート
準シソーラス用語： 還元反応 ,  *酸化黒鉛 ,  *炭素膜

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  光化学反応  (CB08020F)

物質索引 (1件)： オクチルトリクロロシラン

タイトルに関連する用語 (6件)： UV光 ,  シリル化 ,  酸化黒鉛 ,  薄膜 ,  低温 ,  還元