文献

J-GLOBAL ID：201102277431186847   整理番号：11A0394808

KOH溶液の沸点に近い高温域での、滑らかな表面のシリコンへの素早いエッチング

Fast etching of silicon with a smooth surface in high temperature ranges near the boiling point of KOH solution

著者 (5件)： TANAKA H ,  YAMASHITA S ,  ABE Y ,  SHIKIDA M ,  SATO K
資料名： SENSORS AND ACTUATORS A-PHYSICAL
巻： 114  号： 2-3  ページ： 516-520  発行年： 2004年 
JST資料番号： O6065A  ISSN： 0924-4247  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： KOH ,  溶液 ,  沸点 ,  高温域 ,  シリコン ,  エッチング