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J-GLOBAL ID：201102278469624046   整理番号：11A1503038

DNA精製用の有機シラン被覆基板

Organo-silane coated substrates for DNA purification

著者 (12件)： PASQUARDINI L. (Fondazione Bruno Kessler, Center for Materials and Microsystems, via Sommarive 18, I-38123 Povo (Trento), ITA) ,  LUNELLI L. (Fondazione Bruno Kessler, Center for Materials and Microsystems, via Sommarive 18, I-38123 Povo (Trento), ITA) ,  LUNELLI L. (CNR-IBF, via alla Cascata 56/C, I-38123 Povo (Trento), ITA) ,  POTRICH C. (Fondazione Bruno Kessler, Center for Materials and Microsystems, via Sommarive 18, I-38123 Povo (Trento), ITA) ,  POTRICH C. (CNR-IBF, via alla Cascata 56/C, I-38123 Povo (Trento), ITA) ,  MAROCCHI L. (Fondazione Bruno Kessler, Center for Materials and Microsystems, via Sommarive 18, I-38123 Povo (Trento), ITA) ,  FIORILLI S. (Dep. of Materials Sci. and Chemical Engineering - Politecnico di Torino, I-10129 Torino, ITA) ,  VOZZI D. (Univ. of Trieste, Dep. of Reproductive and Developmental Sciences, LATEMAR Unit, I-34149 Trieste, ITA) ,  VANZETTI L. (Fondazione Bruno Kessler, Center for Materials and Microsystems, via Sommarive 18, I-38123 Povo (Trento), ITA) ,  GASPARINI P. (Univ. of Trieste, Dep. of Reproductive and Developmental Sciences, LATEMAR Unit, I-34149 Trieste, ITA) ,  ANDERLE M. (Innovation, Res. and ICT Dep., Provincia Autonoma di Trento, I-38122 Trento, ITA) ,  PEDERZOLLI C. (Fondazione Bruno Kessler, Center for Materials and Microsystems, via Sommarive 18, I-38123 Povo (Trento), ITA)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 257  号： 24  ページ： 10821-10827  発行年： 2011年10月01日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 遺伝子解析で採用されるDNA源として血液を用いるには,PCRを抑制する蛋白質,脂質,およびその他の汚染物質(ヘモグロビンなど)を除去するために,精製過程が必要である。他方で,解析の時間および費用を低減できる小型化かつ自動化された生物学的テストの需要の増大は,微小デバイスにおいてDNA精製過程を行なうための材料の開発およびキャラクタリゼーションを要求している。本研究では,3-アミノプロピルトリエトキシシラン(APTES)あるいは3-[2-(2-アミノエチルアミノ)エチルアミノ]プロピル-トリメトキシシラン(AEEA)界面層の堆積後に,正に帯電した修飾シリコンベース基板とDNA分子との相互作用を研究した。基板の性質とDNAの長さ(208~50000塩基対の範囲)の効果を考慮して,異なる基板(熱成長酸化ケイ素,プラズマ増強化学蒸着により作製した酸化ケイ素,およびPyrex)のDNA吸着および溶出能力の評価を行なった。主要な発見は,DNA溶出能力が,用いた基板およびシラン化剤の選択に依存していることである。AEEA修飾基板からはより高いDNA回収を得たが,溶出したDNAは生来のDNAとは異なる電気泳動特性を有した。その代り,APTES処理基板からは,ゲノムDNAと同じ電気泳動挙動をもつDNAを回収した。さらに,始発材料中に存在するDNAの長さは溶出効率を調節し,より長いDNAはより少ない量で放出された。これは,適切に修飾された表面を,差分DNA分離のための系として利用できることを示唆した。Copyright 2011 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *被覆層 ,  *シラン誘導体 ,  *有機ケイ素化合物 ,  *DNA【核酸】 ,  相互作用 ,  サイズ効果 ,  酸化ケイ素 ,  プラズマCVD ,  ホウケイ酸ガラス ,  基板 ,  溶出 ,  電気泳動 ,  ゲノム ,  顕微鏡観察 ,  原子間力顕微鏡 ,  比率 ,  タンパク質代謝 ,  脂肪族アミン ,  第一アミン
準シソーラス用語： PCR ,  ゲノムDNA ,  パイレックスガラス ,  *有機シラン

分類 (2件)： 核酸一般  (EB04010U) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (1件)： 3-アミノプロピルトリエトキシシラン

タイトルに関連する用語 (2件)： DNA精製 ,  有機シラン