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J-GLOBAL ID：201102279356423393   整理番号：11A1307292

クロム膜のフェムト秒レーザ後ろ側アブレーションにおける材料除去特性への膜特性の効果

Effect of film properties on the material removing characteristics in femtosecond laser rear-side ablation of chromium film

著者 (5件)： WANG Wenjun (State Key Lab. for Manufacturing Systems Engineering, Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an 710049, CHN) ,  MEI Xuesong (State Key Lab. for Manufacturing Systems Engineering, Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an 710049, CHN) ,  JIANG Gedong (State Key Lab. for Manufacturing Systems Engineering, Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an 710049, CHN) ,  WANG Kedian (State Key Lab. for Manufacturing Systems Engineering, Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an 710049, CHN) ,  YANG Chengjuan (State Key Lab. for Manufacturing Systems Engineering, Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an 710049, CHN)
資料名： Optics & Laser Technology  (Optics & Laser Technology)
巻： 44  号： 1  ページ： 153-158  発行年： 2012年02月 
JST資料番号： D0245B  ISSN： 0030-3992  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フェムト秒レーザによる膜の微細加工は,その高い空間分解能とサブスポットサイズの特徴が幅広く研究されている。良くある前側アブレーションと比較すると,膜のフェムト秒レーザ後ろ側アブレーション機構は,膜が破壊される過程が起こるかも知れないためより複雑である。本論文では,Cr膜のフェムト秒レーザ後ろ側アブレーションにおける材料除去特性に接着強度と付着強度のような膜特性が及ぼす効果を調べた。後ろ側アブレーションにおいて可能となる膜破壊過程を先ず分析し,次に様々な膜,蒸着Cr膜,スパッタCr膜,及びフォトマスクのCr膜によるいくつか実験を行った。実験結果は,膜特性はレーザ後ろ側アブレーションの材料除去特性に影響する重要な因子になることを示す。膜特性とレーザフルエンスを変化すると,フェムト秒レーザ後ろ側アブレーション法はレーザ洗浄過程やナノ構造作製に応用できる。後ろ側アブレーションは特異な特徴があるため,フェムト秒レーザ微細加工法の応用が広がるであろう。Copyright 2011 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *クロム ,  金属薄膜 ,  *レーザアブレーション ,  パルスレーザ ,  レーザ加工 ,  蒸着膜 ,  スパッタ蒸着 ,  真空蒸着 ,  フォトマスク ,  微細加工 ,  レーザ損傷 ,  フェムト秒レーザ

分類 (1件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (5件)： クロム ,  フェムト秒レーザ ,  アブレーション ,  材料除去 ,  膜特性