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J-GLOBAL ID：201102279514988697   整理番号：11A1657018

低分子シロキサンによる接点障害の解析・評価サービス

著者 (1件)： 高貫智久 (沖電気工業)
資料名： OKIテクニカルレビュー  (Oki Technical Review)
巻： 78  号： 1  ページ： 64-67  発行年： 2011年10月01日 
JST資料番号： F0243A  ISSN： 1346-5961  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 接点障害の原因は種々報告されているが,本稿では,そのうちの一つである低分子シロキサンによる接点障害を取り上げて解説した。まず,接点障害について歴史及び小型化・軽量化による問題について述べ,次に,低分子シロキサンの構造,接点障害のメカニズム,解析の必要性などを示した。その上で,低分子シロキサンによる接点障害解析事例として,材料から発生するシロキサン量の測定,装置設置環境雰囲気中のシロキサン濃度の測定,シロキサン雰囲気における暴露試験方法などを紹介した。

シソーラス用語： *シロキサン ,  *電気接点 ,  障害 ,  *故障解析 ,  評価 ,  信頼性 ,  化合物 ,  低分子量
準シソーラス用語： 信頼性評価 ,  接点障害 ,  低分子化合物

分類 (1件)： 電気接点  (NA05070V)

引用文献 (1件)：

• 1)有機汚染物質/アウトガスの発生メ力ニズムとトラブル対策事例集,技術情報協会著

タイトルに関連する用語 (5件)： 低分子シロキサン ,  障害 ,  解析 ,  評価 ,  サービス