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J-GLOBAL ID：201102281303382010   整理番号：11A0163313

TiO_2-x膜の真正欠陥とその化学及び光学的性質への影響

Intrinsic defects and their influence on the chemical and optical properties of TiO_2-x films

著者 (8件)： LAIDANI N (Fondazione Bruno Kessler, Trento, ITA) ,  CHEYSSAC P (Univ. Nice Sophia-Antipolis, Nice, FRA) ,  PERRIERE J (Univ. Paris VI, Paris, FRA) ,  BARTALI R (Fondazione Bruno Kessler, Trento, ITA) ,  GOTTARDI G (Fondazione Bruno Kessler, Trento, ITA) ,  LUCIU I (Fondazione Bruno Kessler, Trento, ITA) ,  LUCIU I (Universita di Trento, Trento, ITA) ,  MICHELI V (Fondazione Bruno Kessler, Trento, ITA)
資料名： Journal of Physics. D. Applied Physics  (Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻： 43  号： 48  ページ： 485402,1-11  発行年： 2010年12月08日 
JST資料番号： B0092B  ISSN： 0022-3727  CODEN： JPAPBE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アルゴンとアルゴン+酸素プラズマ中でTiO₂ターゲットの高周波スパッタリングによりTiO₂膜を作成した。酸素含有量は3-20%である。膜はRutherford後方散乱分光法,X線光電子分光法,及びX線回折により特性を評価した。これら結果から,膜の組成と密度,化学状態と表面の化学量論,価電子バンド極大,価電子バンド極大より上の化学状態,光学ギャップとギャップ状態を調べ,電子バンド構造スキームを提案した。

シソーラス用語： *酸化チタン ,  RFスパッタリング ,  スパッタ蒸着 ,  蒸着膜 ,  Rutherford散乱分光法 ,  X線光電子分光法 ,  X線回折分析 ,  化学組成 ,  化学量論 ,  価電子バンド ,  光学ギャップ ,  *バンド構造 ,  *複素誘電率 ,  *空格子点

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  半導体結晶の電子構造  (BM02060N)

タイトルに関連する用語 (4件)： 真正 ,  欠陥 ,  化学 ,  光学的性質