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J-GLOBAL ID：201102285782566240   整理番号：11A0136016

イオン注入の使用による高分子基板上での多細胞型の単純で生体適合性ミクロパターン形成

Simple and Biocompatible Micropatterning of Multiple Cell Types on a Polymer Substrate by Using Ion Implantation

著者 (4件)： HWANG In-Tae (Korea Atomic Energy Res. Inst., Jeollabuk-do, KOR) ,  JUNG Chan-Hee (Korea Atomic Energy Res. Inst., Jeollabuk-do, KOR) ,  CHOI Jae-Hak (Korea Atomic Energy Res. Inst., Jeollabuk-do, KOR) ,  NHO Young-Chang (Korea Atomic Energy Res. Inst., Jeollabuk-do, KOR)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 26  号： 23  ページ： 18437-18441  発行年： 2010年12月07日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 選択的イオン注入を用いて,細胞耐性Pluronic F127のミクロパターンを形成した。一次細胞をPluronicパターン化した組織培養ポチスチレンシャーレ(TCPS)上に培養し,続いて二次細胞をシードして,一次細胞でパターン化したTCPS上で増殖した。最終的に,照射線量依存性細胞挙動を用いて,2種の細胞のミクロパターンが基板上に形成された。2種の細胞をミクロパターン化するための他の方法と比較して,この方法は容易で信頼性のある処理及び刺激の強い化学物質を含まな高いい生体適合性などの利点を有する。

シソーラス用語： *培養細胞 ,  *パターン形成 ,  3T3細胞 ,  線維芽細胞 ,  ケラチン細胞 ,  多重化 ,  *イオン注入 ,  *高分子界面活性剤 ,  *非イオン界面活性剤 ,  トリブロック共重合体 ,  照射線量 ,  生体適合性 ,  組織培養
準シソーラス用語： HaCaT細胞 ,  L929細胞 ,  *Pluronic F127 ,  *ミクロパターン形成 ,  照射線量依存性

分類 (2件)： 細胞・組織培養法  (EA03040R) ,  放射線高分子化学  (CG03050S)

タイトルに関連する用語 (5件)： イオン注入 ,  高分子基板 ,  単純 ,  生体適合性 ,  ミクロパターン形成