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J-GLOBAL ID：201102288508183279   整理番号：11A0645679

SF-MDCを用いるAl上への局部アノード酸化皮膜の形成

著者 (4件)： 村田拓哉 (北大 大学院) ,  坂入正敏 (北大 大学院) ,  菊地竜也 (北大 大学院) ,  伏見公志 (北大 大学院)
資料名： 化学系学協会北海道支部冬季研究発表会講演要旨集
巻： 2011  ページ： 94  発行年： 2011年02月01日 
JST資料番号： L6025A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *アノード酸化 ,  *アルミニウム ,  酸化アルミニウム ,  酸化膜 ,  液滴 ,  化学電池 ,  膜厚 ,  堆積速度 ,  速度 ,  走査 ,  界面 ,  表面構造 ,  微小液滴 ,  電気化学セル ,  界面構造 ,  化成皮膜 ,  構造
準シソーラス用語： 走査速度 ,  界面組織

分類 (1件)： 化成処理  (WC08050J)

タイトルに関連する用語 (4件)： SF ,  MDC ,  Al ,  アノード酸化皮膜