パルス二重マグネトロンシステムを用いた光活性TiO<sub>2</sub>膜の蒸着中のイオン衝突特性

NOVAK O.; SICHA J.; VLCEK J.

文献

J-GLOBAL ID：201102293733158287 整理番号：11A0300866

パルス二重マグネトロンシステムを用いた光活性TiO₂膜の蒸着中のイオン衝突特性

Ion-Bombardment Characteristics during Deposition of Photoactive TiO₂ Films Using a Pulsed Dual Magnetron System

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資料名：
巻： 53rd ページ： 389-392 発行年： 2010年
JST資料番号： E0063B ISSN： 0737-5921 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

パルス直流二重マグネトロンスパッタリングにおいて,基板位置でのイオンフラックス特性および製造したTiO₂膜の構造および光活性を調べた。Ar+O₂ガス混合物中において,基板温度160°C且つ平板チタンターゲット(純度99.5%,直径50mm)によって,ふたつの非平衡マグネトロンを用いて蒸着を行った。フローティング電源の二重マグネトロンシステムで,比較的狭いイオンエネルギー分布(大地電位に比較して僅か45eVまで)が得られた。基板へのフラックスでの高エネルギーイオンの抑制が高い光活性の大きい粒界をもつTiO₂アナターゼ相をもたらした。

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光化学一般 , 酸化物薄膜

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パルス二重マグネトロンシステムを用いた光活性TiO2膜の蒸着中のイオン衝突特性

パルス二重マグネトロンシステムを用いた光活性TiO₂膜の蒸着中のイオン衝突特性