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J-GLOBAL ID：201102294784162145   整理番号：11A1006218

バルク<-Si₃N₄およびβ-Si₃N₄/SiO₂界面における酸素の同定および格子位置

Identification and Lattice Location of Oxygen in Bulk 〈-Si₃N₄ and β-Si₃N₄/SiO₂ Interfaces

著者 (13件)： IDROBO J.C. (Vanderbilt Univ., TN, USA) ,  IDROBO J.C. (Oak Ridge National Lab., TN, USA) ,  IDROBO J.C. (Univ. Illinois at Chicago, IL, USA) ,  OXLEY M.P. (Vanderbilt Univ., TN, USA) ,  OXLEY M.P. (Oak Ridge National Lab., TN, USA) ,  WALKOSZ W. (Univ. Illinois at Chicago, IL, USA) ,  KLIE R.F. (Univ. Illinois at Chicago, IL, USA) ,  OEGUET S. (Univ. Illinois at Chicago, IL, USA) ,  MIKIJELJ B. (Ceradyne Inc. Costa Mesa, CA, USA) ,  PENNYCOOK S.J. (Oak Ridge National Lab., TN, USA) ,  PENNYCOOK S.J. (Vanderbilt Univ., TN, USA) ,  PANTELIDES S.T. (Vanderbilt Univ., TN, USA) ,  PANTELIDES S.T. (Oak Ridge National Lab., TN, USA)
資料名： 日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集  (Abstracts. Fall Meeting of the Ceramic Society of Japan)
巻： 23rd (CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.S1-011  発行年： 2010年11月14日 
JST資料番号： L2240A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *窒化ケイ素 ,  *酸化ケイ素 ,  *界面 ,  電子構造 ,  *透過型走査電子顕微鏡 ,  理論 ,  確率密度 ,  画像 ,  シミュレーション ,  *酸素 ,  *同定 ,  格子構造
準シソーラス用語： *密度関数理論

分類 (2件)： 固体の表面構造一般  (BK15010E) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (7件)： バルク ,  Si3N4 ,  SiO2 ,  界面 ,  酸素 ,  同定 ,  格子