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J-GLOBAL ID：201102297174044832   整理番号：11A0306344

フォトマスクのCr,MoSiおよび石英表面上の浮遊SO₂およびNH₃汚染物の研究

Study of the airborne SO₂ and NH₃ contamination on Cr, MoSi and quartz surfaces of photomasks

著者 (4件)： FONTAINE H. (CEA, Grenoble, FRA) ,  DEMENET G. (CEA, Grenoble, FRA) ,  ENYEDI V. (CEA, Grenoble, FRA) ,  CETRE S. (CEA, Grenoble, FRA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7823  号： Pt.2  ページ： 782328.1-782328.12  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 浮遊汚染物(SO₂とNH₃)を制御した空気中に石英,Cr,MoSiのそれぞれのマスク様の層を被覆したSi基板を曝し,液相抽出イオンクロマトグラフィーを用いて,付着した汚染物の量やその動力学などを調べた。SO₂とNH₃のいずれの場合も,Cr表面はMoSi表面より汚染されやすく,石英表面の汚染はMoSiよりもわずかに少なかった。Cr上のSO₂とNH₃およびMoSi上のSO₂の堆積はLangmuir型吸着過程によるものであり,輸送係数を決定することで,時間と気中濃度に依存した汚染物の吸着量を計算できた。石英へのSO₂の吸着は小さく,緩慢であるが,MoSiと石英へのNH₃の吸着は高速であり,数分で飽和レベルに達することが分かった。

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  *フォトマスク ,  *汚染物質 ,  *浮体 ,  石英ガラス ,  クロム ,  二酸化硫黄 ,  アンモニア ,  *抽出クロマトグラフィー ,  液体クロマトグラフィー ,  吸着等温式 ,  輸送係数 ,  時間依存性 ,  濃度依存性 ,  金属薄膜 ,  ケイ素 ,  モリブデン ,  多層膜
準シソーラス用語： Langmuir吸着等温式

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  液体クロマトグラフィー  (CC04014L)

タイトルに関連する用語 (8件)： フォトマスク ,  Cr ,  石英 ,  浮遊 ,  SO2 ,  NH3 ,  汚染物 ,  研究