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J-GLOBAL ID：201102297538158715   整理番号：11A1502193

半ソーダライトケージをもつ層状ケイ酸塩RUB-51の秩序シリル化

Ordered Silylation of Layered Silicate RUB-51 with Half-Sodalite Cages

著者 (5件)： ASAKURA Yusuke (Dep. of Applied Chemistry, Fac. of Sci. and Engineering, Waseda Univ.) ,  MATSUO Yuki (Dep. of Applied Chemistry, Fac. of Sci. and Engineering, Waseda Univ.) ,  TAKAHASHI Nobuyuki (Dep. of Applied Chemistry, Fac. of Sci. and Engineering, Waseda Univ.) ,  KURODA Kazuyuki (Dep. of Applied Chemistry, Fac. of Sci. and Engineering, Waseda Univ.) ,  KURODA Kazuyuki (Kagami Memorial Res. Inst. for Materials Sci. and Technol., Waseda Univ.)
資料名： Bulletin of the Chemical Society of Japan  (Bulletin of the Chemical Society of Japan)
巻： 84  号： 9  ページ： 968-975 (J-STAGE)  発行年： 2011年 
JST資料番号： G0450A  ISSN： 0009-2673  CODEN： BCSJA8  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 半ソーダライトケージをもつ層状ケイ酸塩RUB-51をジクロロジメチルシランとトリクロロメチルシランによりシリル化した。層間表面上の2つの対立するSi-O^-/Si-OH基をもつRUB-51を二/三官能性シリル化剤と反応させて二座シリル化を誘導した。ジクロロジメチルシランでシリル化したRUB-51をシクロヘキサン中で超音波により層間剥離した。2つの対立するSi-O^-/Si-OH基をもち二座配位状態をつくっている,層状オクタシリカートを同じシリル化剤と反応させた。2つの異なる層状ケイ酸塩由来のこれらシリル化生成物の比較からシリル化層間表面の構造は2つのSi-O^-/Si-OH基の配置によって変えられることが明らかになった。シリル化したRUB-51はケイ酸塩系ナノ材料設計に有用と見られるジグザグ溝を層表面上にもつ。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *方ソーダ石 ,  *フィロ珪酸塩鉱物 ,  *シリル化 ,  *ケイ酸塩 ,  超音波照射 ,  *層間剥離 ,  ナノ構造 ,  材料 ,  材料設計 ,  *表面構造 ,  有機ケイ素化合物 ,  ナノ材料
準シソーラス用語： *ソーダライト ,  *層状珪酸塩鉱物 ,  積層剥離

分類 (3件)： 塩  (CD01050V) ,  有機けい素化合物  (CF08030C) ,  固体の表面構造一般  (BK15010E)

物質索引 (2件)： ジクロロジメチルシラン ,  トリクロロメチルシラン

引用文献 (52件)：

• 1) M. E. Davis, Nature 2002, 417, 813.
• 2) a) C. S. Cundy, P. A. Cox, Microporous Mesoporous Mater. 2005, 82, 1.
•  b) G. Lagaly, Adv. Colloid Interface Sci. 1979, 11, 105.
• 3) a) A. W. Burton, S. I. Zones, S. Elomari, Curr. Opin. Colloid Interface Sci. 2005, 10, 211.
•  b) J. Jiang, J. Yu, A. Corma, Angew. Chem., Int. Ed. 2010, 49, 3120.

タイトルに関連する用語 (4件)： ソーダライト ,  ケージ ,  層状ケイ酸塩 ,  シリル化