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J-GLOBAL ID：201102299618906014   整理番号：11A0130617

全外部反射X線回折を使った薄膜の深さ選択構造分析

Depth-selective structural analysis of thin films using total-external-reflection x-ray diffraction

著者 (2件)： KAWAMURA Tomoaki (Nichia Corp., Kanagawa, JPN) ,  OMI Hiroo (NTT Corp., Kanagawa, JPN)
資料名： Journal of Physics. Condensed Matter  (Journal of Physics. Condensed Matter)
巻： 22  号： 47  ページ： 474009,1-12  発行年： 2010年12月01日 
JST資料番号： B0914B  ISSN： 0953-8984  CODEN： JCOMEL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *X線回折 ,  X線反射 ,  全反射 ,  *深さ分析 ,  エピタクシー ,  ドーピング ,  *量子井戸 ,  ヒ化ガリウム ,  アルミニウム ,  *金属薄膜 ,  ヒ化ガリウムインジウム ,  *SOI構造
準シソーラス用語： ヘテロ構造

分類 (2件)： X線回折法  (BK01020I) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (3件)： X線回折 ,  薄膜 ,  構造分析