特許

J-GLOBAL ID：201103000492341499

常圧CVD装置及び膜形成方法

発明者： 吉住 登
出願人/特許権者： 九州日本電気株式会社
代理人 (1件)： 机 昌彦 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-351831
公開番号（公開出願番号）：特開2001-164370
特許番号：特許第3467442号
出願日： 1999年12月10日
公開日（公表日）： 2001年06月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 中央部にオリフィス穴を有し、このオリフィス穴の中心軸を対称軸として頂点角が対向し、かつ断面形状が二等辺三角形のオリフィス形成体とからなる回転可能な排気制御用オリフィスと、前記オリフィス穴を通り前記オリフィス形成体の表裏面に密着して設けられた清掃用スティックとを備えていることを特徴とする常圧CVD装置。

IPC (3件)：

C23C 16/44 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/31

FI (3件)：

C23C 16/44 J ,  H01L 21/285 C ,  H01L 21/31 B

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特許第2973490号