特許

J-GLOBAL ID：201103000511471188

ガス成分測定装置

発明者： 小町谷 昌宏 ,  鈴木 清光
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 春日 讓
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-606992
特許番号：特許第3889568号
出願日： 1999年03月23日
請求項（抜粋）：

【請求項1】第1の固体電解質層と、 第2の固体電解質層とが積層され、 前記第1の固体電解質層は多孔質であって、通電により、通過するガス中の酸素の一部または全部を排除し、 前記第2の固体電解質層への通電により、前記第1の固体電解質層を通過したガス中の被測定成分を還元または酸化し、 前記第2の固体電解質層の通電電流に基づいて、前記被測定成分の濃度を測定するガス成分測定装置。

IPC (2件)：

G01N 27/41 ( 200 6.01) ,  G01N 27/416 ( 200 6.01)

FI (2件)：

G01N 27/46 325 N ,  G01N 27/46 331