ネガ型感放射線性樹脂組成物

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (5件)：渡邉一平 , 木川幸治 , 菅野重慶 , 佐藤博幸 , 小池成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-200868
公開番号（公開出願番号）：特開2011-053359
出願日： 2009年08月31日
公開日（公表日）： 2011年03月17日
要約：

【課題】EB(電子線)又はEUV(極紫外線)に有効に感応し、ラフネス、エッチング耐性、及び感度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成することのできる化学増幅型のネガ型レジスト膜を成膜可能な感放射線性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】下記一般式(1)又は(2)(Rは、相互に独立に、水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を示し、Xは、相互に独立に、炭素数1〜8のアルキレン基を示し、少なくともいずれかのRは炭素数1〜8のアルキル基を示す。)で表されるアレーン系化合物(A)、架橋剤(B)、酸発生剤(C)、酸拡散制御剤(D)、及び溶剤(E)を含むネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)又は(2)で表されるアレーン系化合物(A)、下記一般式(3)で表される架橋剤(B)、酸発生剤(C)、酸拡散制御剤(D)、及び溶剤(E) を含むネガ型感放射線性樹脂組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/038 , G03F 7/004 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/038 601 , G03F7/004 501 , H01L21/30 502R

Fターム (13件)：

2H125AE05P , 2H125AF17P , 2H125AF36P , 2H125AN26P , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN63P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB16 , 2H125CC01 , 2H125CC18

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