特許

J-GLOBAL ID：201103000706979445

セラミックス基材の被膜形成方法

発明者： 山内 英俊
出願人/特許権者： イビデン株式会社
代理人 (1件)： 恩田 博宣 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-179859
公開番号（公開出願番号）：特開平3-045582
特許番号：特許第2753334号
出願日： 1989年07月12日
公開日（公表日）： 1991年02月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】セラミックス粉末に、このセラミックスよりもエッチングされ易いフィラーを配合して成形した後、この成形体を焼結させて得たセラミックス基材(1)に対し、その基材(1)の被膜形成面にエッチングを施すことにより、基材表面に分布するフィラーを除去して複数の微細な空隙(3)を形成した後、その被膜形成面に対して前記セラミックス基材(1)と同程度の熱膨張率を有する物質を付着させて被膜(4)を形成することを特徴とするセラミックス基材の被膜形成方法。

IPC (2件)：

C04B 41/87 ,  C04B 41/85

FI (3件)：

C04B 41/87 A ,  C04B 41/85 C ,  C04B 41/87 S