特許
J-GLOBAL ID：201103000821443320
シタロプラムの製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
江崎 光史
, 三原 恒男
, 奥村 義道
, 鍛冶澤 實
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-577159
特許番号：特許第3892667号
出願日： 1999年10月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】式IV
(式中、XはOであり、
R1 -R2 は相互に独立して水素及びC1-6 アルキルから選ばれるか又はR1 及びR2 は一緒になってC2-5 アルキレン鎖を形成し、それによってスピロ環を形成し、R3 は水素及びC1-6 アルキルから選ばれ、R4 は水素、C1-6 アルキル、カルボキシ基又はそのための前駆体基から選ばれるか又はR3 及びR4 は一緒になってC2-5 アルキレン鎖を形成し、それによってスピロ環を形成する。)
で表わされる化合物を脱水剤で処理して、式I
で表わされるシタロプラムとし、その後得られたその遊離塩基又はその酸付加塩を場合によりその薬学的に容認された塩に変えることを特徴とする、シタロプラム又はそのすべての対掌体又はその酸付加塩の製造方法。
IPC (4件)：
C07D 307/87 ( 200 6.01)
, C07D 413/04 ( 200 6.01)
, A61K 31/343 ( 200 6.01)
, A61P 25/24 ( 200 6.01)
C07D 307/87
, C07D 413/04
, A61K 31/343
, A61P 25/24
