特許

J-GLOBAL ID：201103001087792919

ベータ型ゼオライト及びその製造方法

発明者： 板橋 慶治 ,  大久保 達也 ,  上村 佳大 ,  チャイキッティスィン ワッチャロップ ,  シャンムガム パラニ エランゴバン
出願人/特許権者： 日本化学工業株式会社 ,  国立大学法人 東京大学
代理人 (2件)： 羽鳥 修 ,  松嶋 善之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-154510
公開番号（公開出願番号）：特開2011-126768
出願日： 2010年07月07日
公開日（公表日）： 2011年06月30日
要約：

【課題】可能な限り構造規定剤を用いずに、環境負荷を可能な限り低減できるベータ型ゼオライト及びその製造方法を提供すること。【解決手段】本発明のベータ型ゼオライトは、SiO2/Al2O3比が10〜16であるアルミニウムリッチなものである。このベータ型ゼオライトは、ナトリウム型の状態で測定されたBET比表面積が500〜700m2/gであり、ミクロ孔比表面積が350〜500m2/gであり、かつミクロ孔容積が0.15〜0.25cm3/gであることを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

SiO2/Al2O3比が10〜16であるベータ型ゼオライトであって、 ナトリウム型の状態で測定されたBET比表面積が500〜700m2/gであり、ミクロ孔比表面積が350〜500m2/gであり、かつミクロ孔容積が0.15〜0.25cm3/gであることを特徴とするベータ型ゼオライト。

IPC (2件)：

C01B 39/46 ,  B01J 29/70

FI (2件)：

C01B39/46 ,  B01J29/70 A

Fターム (16件)：

4G073CZ25 ,  4G073FC12 ,  4G073FC25 ,  4G073FC30 ,  4G073FD02 ,  4G073GA01 ,  4G073GA12 ,  4G073GA14 ,  4G073UA05 ,  4G169AA03 ,  4G169BA07A ,  4G169BA07B ,  4G169CA03 ,  4G169CA15 ,  4G169ZA19A ,  4G169ZA19B