特許
J-GLOBAL ID：201103001254846805
逆コンプトン散乱を用いたX線発生装置及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-110956
公開番号（公開出願番号）：特開2011-238546
出願日： 2010年05月13日
公開日（公表日）： 2011年11月24日
要約：
【課題】電子ビームと自由電子レーザーとの逆コンプトン散乱の衝突点を増大させて高収量のX線を発生させ、準単色性を有するX線の発生することができるX線発生装置及び方法を実現する。【解決手段】本発明の逆コンプトン散乱を用いたX線発生装置は、加速器と、加速器内で電子ビーム軌道を挟むと共に周期的な磁場を発生するアンジュレータと、光共振器を備え、電子バンチのバンチ間隔がアンジュレータの周期磁場の周期長の偶数倍であるように設定して、前記アンジュレータ内で、自由電子レーザー光と電子ビームとを衝突させてレーザー逆コンプトン散乱X線を発生させる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
逆コンプトン散乱を用いたX線発生装置であって、
加速器内で電子ビーム軌道を挟むと共に周期的な磁場を発生するアンジュレータを備え、
電子バンチのバンチ間隔がアンジュレータの周期磁場の周期長の偶数倍であるようにして、前記アンジュレータ内で、自由電子レーザー光と電子ビームとを衝突させてレーザー逆コンプトン散乱X線を発生させることを特徴とするX線発生装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (4件)：
4C092AA03
, 4C092AB21
, 4C092BD16
, 4C092BD20
