特許

J-GLOBAL ID：201103001360266931

液滴吐出装置の洗浄方法

発明者： 傳田 敦 ,  田邉 健太郎 ,  小林 敏之 ,  ▲濱▼ 佳和 ,  豊田 直之
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (2件)： 増田 達哉 ,  朝比 一夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-014835
公開番号（公開出願番号）：特開2011-152504
出願日： 2010年01月26日
公開日（公表日）： 2011年08月11日
要約：

【課題】液滴吐出装置の液滴吐出ヘッドに影響を与えることなく、液滴吐出装置の導体パターン形成用インクの流路における汚れを好適に解消できる液滴吐出装置の洗浄方法を提供すること。【解決手段】本発明の液滴吐出装置の洗浄方法は、金属粒子が水系分散媒に分散したインクを吐出する液滴吐出装置を洗浄する方法であり、当該液滴吐出装置は、インクを貯留するインク貯留層と、インクを吐出する吐出部を備えた液滴吐出ヘッドと、インク貯留部から液滴吐出ヘッドに向かってインクを搬送する搬送路と、搬送路に設けられ、インクの逆流を防止する自己封止弁と、搬送路の自己封止弁よりもインク貯留部側に設けられたフィルターとを有し、液滴吐出装置の洗浄に用いられる洗浄液を、搬送路に、インクの流れる方向とは反対方向に向かって流すことを特徴とする。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

液滴吐出方式による導体パターンの形成に用いられ、金属粒子が水系分散媒に分散した導体パターン形成用インクを吐出する液滴吐出装置を洗浄する洗浄方法であって、 前記液滴吐出装置は、前記導体パターン形成用インクを貯留するインク貯留層と、前記導体パターン形成用インクを吐出する吐出部を備えた液滴吐出ヘッドと、前記インク貯留部から前記液滴吐出ヘッドに向かって前記導体パターン形成用インクを搬送する搬送路と、前記搬送路に設けられ、前記導体パターン形成用インクの逆流を防止する自己封止弁と、前記搬送路の前記自己封止弁よりも前記インク貯留部側に設けられたフィルターとを有し、 前記液滴吐出装置の洗浄に用いられる洗浄液を、前記搬送路に、前記導体パターン形成用インクの流れる方向とは反対方向に向かって流すことを特徴とする液滴吐出装置の洗浄方法。

IPC (4件)：

B05C 11/10 ,  B08B 9/027 ,  B05C 5/00 ,  H01L 21/288

FI (4件)：

B05C11/10 ,  B08B9/06 ,  B05C5/00 101 ,  H01L21/288 Z

Fターム (25件)：

3B116AA12 ,  3B116AA47 ,  3B116AB53 ,  3B116BC00 ,  4F041AA05 ,  4F041AB01 ,  4F041BA10 ,  4F041BA13 ,  4F041BA35 ,  4F041BA59 ,  4F042AA06 ,  4F042CB18 ,  4F042CC03 ,  4F042CC04 ,  4F042CC08 ,  4F042CC15 ,  4F042CC22 ,  4F042DA01 ,  4M104BB04 ,  4M104BB06 ,  4M104BB07 ,  4M104BB08 ,  4M104BB09 ,  4M104DD51 ,  4M104HH16