特許
J-GLOBAL ID:201103001418659416

磁気ディスク及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中村 稔 (外7名)
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-111848
公開番号(公開出願番号):特開2000-003513
特許番号:特許第3172149号
出願日: 1999年04月20日
公開日(公表日): 2000年01月07日
請求項(抜粋):
【請求項1】 ディスク表面を含む本体から成る磁気ディスクであって、前記ディスク表面はデータ面領域とヘッドランディングゾーン面領域から成り、前記ヘッドランディングゾーン面領域は逐次的なパルス状のレーザービームによって形成されたものであって、該レーザービームの断面領域がパルス間でオーバーラップするように制御されており、これによって、前記ヘッドランディングゾーン面が、前記基本面から外向きに波状に変化する上端部まで伸びる、基本面と連続した嶺から成り、前記嶺の上端は、規則的に変化する頂上とこれに沿って延びる谷間とを有しており、隣り合う頂上の間隔が、前記上端と前記基本面との間の測定された平均高さより小さくなっていることを特徴とする磁気ディスク。
IPC (2件):
G11B 5/82 ,  G11B 5/84
FI (2件):
G11B 5/82 ,  G11B 5/84 A
引用特許:
審査官引用 (4件)
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