特許

J-GLOBAL ID：201103001574614732

真空誘導加熱炉

発明者： 田所 昌宏 ,  大島 省三
出願人/特許権者： 神鋼電機株式会社
代理人 (1件)： 川▲崎▼ 研二
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-009676
公開番号（公開出願番号）：特開2000-205759
特許番号：特許第3941276号
出願日： 1999年01月18日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 溶湯を蓄えるための液溜部と、 前記溶湯を吐出すべく前記液溜部の下部に突設状態で設けられたノズル部と、 前記溶湯を所定の温度に保つための誘導加熱コイルと、 を有する真空誘導加熱炉において、 少なくとも前記ノズル部の外形形状に沿って前記誘導加熱コイルを近接配置し、 前記ノズル部は、前記液溜部を構成する材料よりも熱伝導性の高い材料で前記液溜部と一体的に構成した ことを特徴とする真空誘導加熱炉。

IPC (2件)：

F27B 14/18 ( 200 6.01) ,  B22D 45/00 ( 200 6.01)

FI (2件)：

F27B 14/18 ,  B22D 45/00 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-281709
  
• 特開昭63-207984
  
• 溶解装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-198368   出願人：京セラ株式会社