特許

J-GLOBAL ID：201103001674918550

X線露光装置

発明者： 田中 裕 ,  水澤 伸俊 ,  刈谷 卓夫 ,  鵜澤 俊一 ,  雨宮 光陽
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-271877
公開番号（公開出願番号）：特開平3-135010
特許番号：特許第2766935号
出願日： 1989年10月20日
公開日（公表日）： 1991年06月10日
請求項（抜粋）：

【請求項1】転写すべきパターンを有するマスクを保持するマスク保持手段と、該マスクを介して露光すべきウエハを搭載するウエハステージと、前記マスク保持手段および前記ウエハステージを密閉的に収納するステージ収納室と、X線源から発生したX線を前記ステージ収納室に導入するための真空経路を構成する鏡筒と、前記真空経路と前記ステージ収納室とを分離して仕切る遮断窓と、前記ステージ収納室内をX線吸収率の小さいガスで置換するための真空排気手段及びガス供給手段とを具備し、前記ガス供給手段のガス供給ポートおよび置換ガスの圧力を検出するための圧力検出ポートが前記遮断窓から前記マスクまでの間のX線照射通路内に向けて開口するように設けられ、且つ前記真空排気手段は、前記X線照射通路とは離れた前記ステージ収納室に開口したガス排気ポートと、該ガス排気ポートに接続された排気用ポンプを有することを特徴とするX線露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/00

FI (4件)：

H01L 21/30 531 A ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/00 B

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平1-181521