特許
J-GLOBAL ID:201103002138891352

光学素子の製造方法、光学素子用露光装置、光学素子、照明光学装置、表示装置、および電子機器

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 勇
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-174504
公開番号(公開出願番号):特開2011-095719
出願日: 2010年08月03日
公開日(公表日): 2011年05月12日
要約:
【課題】種々のバリエーションの形状が形成可能であり、高機能化と歩留まり向上及びコストダウンを実現することができる光学素子の製造方法等を提供する。【解決手段】遮光パターン2付きの透明基板5上に透明感光性樹脂7を塗布する工程と、遮光パターン2付きの透明基板5越しに透明感光性樹脂7に任意の量の露光光RLを照射してパターニングすることで、透明層4を形成する工程と、透明層4の間に黒色硬化性樹脂12を充填することで光吸収層3を形成する工程とを有し、透明基板5を湾曲させた状態で、遮光パターン2が形成された透明基板5の表面に対して斜め方向に露光光RLを照射する照射工程を含むこと。【選択図】図5
請求項(抜粋):
透明基板上に透明感光性樹脂を積層し、 この透明感光性樹脂が積層された前記透明基板の少なくとも一部を湾曲させて当該透明基板を露光装置により保持し、 この透明基板の少なくとも一部を湾曲させた状態を維持しつつ、前記透明感光性樹脂に向けて平行光から成る露光光を照射して前記透明感光性樹脂をパターニングし複数に区画された透明層を形成し、 この透明層の形成後に、前記湾曲させた状態の透明基板を元の平坦面の状態に設置し、 前記パターニングにより形成された前記透明層の相互間に位置する空間部分に黒色硬化性樹脂を充填してこれを光吸収層とすることを特徴とした光学素子の製造方法。
IPC (4件):
G02B 5/00 ,  G02F 1/133 ,  G02F 1/134 ,  G09F 9/00
FI (8件):
G02B5/00 B ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1347 ,  G09F9/00 313 ,  G09F9/00 324 ,  G09F9/00 311 ,  G09F9/00 334 ,  G02F1/1334
Fターム (52件):
2H042AA09 ,  2H042AA10 ,  2H042AA11 ,  2H042AA15 ,  2H042AA26 ,  2H189AA04 ,  2H189AA22 ,  2H189HA16 ,  2H189LA15 ,  2H189LA18 ,  2H189LA19 ,  2H189LA20 ,  2H189NA07 ,  2H191FA14Y ,  2H191FA38Z ,  2H191FA51X ,  2H191FA51Z ,  2H191FA52Z ,  2H191FA71Z ,  2H191FA85Z ,  2H191FA95X ,  2H191FA95Z ,  2H191FB02 ,  2H191FC10 ,  2H191FC33 ,  2H191FD04 ,  2H191FD32 ,  2H191FD35 ,  2H191GA23 ,  2H191JA02 ,  2H191LA25 ,  2H191LA26 ,  2H191NA73 ,  2H191NA76 ,  5G435AA01 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435BB12 ,  5G435DD11 ,  5G435EE13 ,  5G435EE25 ,  5G435EE50 ,  5G435FF06 ,  5G435FF08 ,  5G435FF12 ,  5G435FF13 ,  5G435FF14 ,  5G435HH02 ,  5G435HH04 ,  5G435KK07 ,  5G435LL07 ,  5G435LL08
引用特許:
審査官引用 (4件)
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