特許
J-GLOBAL ID：201103002190467666
窒化処理装置及び窒化処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人グランダム特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-204866
公開番号（公開出願番号）：特開2011-052313
出願日： 2009年09月04日
公開日（公表日）： 2011年03月17日
要約：
【課題】複雑な形状のみならず、高い寸法・形状精度が要求される処理物の窒化処理を行うことができる窒化処理装置を提供する。【解決手段】窒化処理装置は、エネルギー制御された電子ビームを生成する電子ビームガン10と、導入された窒素ガスが電子ビームガン10から照射された電子ビームにより窒素プラズマ化される処理槽2とを有する電子ビーム励起プラズマ装置1を用いる。処理槽20内の所定の位置には、内部に処理物40を配置可能な金属製の網目状のケージ30が設けられている。窒化処理装置は、処理物40が配置される位置におけるプラズマ電位よりも高い正電位のバイアス電圧を処理物40に印加可能な第1直流電源装置41と、負電位のバイアス電圧をケージ30に印加可能な第2直流電源装置31とを備えている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
エネルギー制御された電子ビームを生成する電子ビームガンと、導入された窒素ガスが電子ビームガンから照射された電子ビームにより窒素プラズマ化される処理槽とを有する電子ビーム励起プラズマ装置を用いた窒化処理装置であって、
前記処理槽内の所定の位置に設けられ、内部に処理物を配置可能な金属製の網目状のケージと、
前記処理物が配置される位置におけるプラズマ電位よりも高い正電位のバイアス電圧を処理物に印加可能な第1直流電源装置と、
負電位のバイアス電圧を前記ケージに印加可能な第2直流電源装置とを備えていることを特徴とする窒化処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (3件)：
4K028BA02
, 4K028BA12
, 4K028BA21
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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