特許

J-GLOBAL ID：201103002211101918

立体高分子材料の表面処理方法

発明者： ヨン・ヒー・リー ,  スン・ヒー・ハン
出願人/特許権者： コリア インスティチュート オブ サイエンス アンド テクノロージ
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-334520
特許番号：特許第3220445号
出願日： 2000年11月01日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 (a)真空槽内の試料台上に立体高分子材料を位置させる工程と、(b)真空槽内の前記材料表面から一定距離離れた箇所にグリッドを位置させる工程と、(c)真空槽内の前記材料表面に抵抗度を低める黒鉛層を形成するために気体プラズマイオンを形成する工程と、(d)前記グリッドに陰電圧パルスを加えて気体プラズマイオンを前記材料の表面に注入させる工程とを含むグリッドを用いた立体高分子のプラズマイオン注入による立体高分子材料の表面処理方法。

IPC (3件)：

C08J 7/00 306 ,  C23C 14/48 ,  C08L 101:00

FI (3件)：

C08J 7/00 306 ,  C23C 14/48 A ,  C08L 101:00