特許

J-GLOBAL ID：201103002517088087

高屈折率膜形成用のスパッタリングターゲット

発明者： 川本 泰 ,  林 一郎
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
代理人 (2件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-295341
公開番号（公開出願番号）：特開2011-132588
出願日： 2009年12月25日
公開日（公表日）： 2011年07月07日
要約：

【課題】酸化チタンを主体とする高屈折率膜の形成に用いる、成膜速度が高く、成膜時の基体表面の温度上昇を抑制することができるスパッタリングターゲットの提供。 【解決手段】 実質的にチタンおよびジルコニウムからなり、Zr/(Zr+Ti)の比率が5〜50原子%であることを特徴とするスパッタリングターゲット。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

実質的にチタンおよびジルコニウムからなり、Zr/(Zr+Ti)の比率が5〜50原子%であることを特徴とするスパッタリングターゲット。

IPC (1件)：

C23C 14/34

FI (1件)：

C23C14/34 A

Fターム (8件)：

4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029BA48 ,  4K029BC07 ,  4K029CA06 ,  4K029DC05 ,  4K029DC08 ,  4K029DC09