特許
J-GLOBAL ID：201103002649547153
光ファイバの製造方法及び製造装置
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
長谷川 芳樹
, 塩田 辰也
, 寺崎 史朗
, 柴田 昌聰
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-289734
公開番号（公開出願番号）：特開2001-114525
特許番号：特許第4356154号
出願日： 1999年10月12日
公開日（公表日）： 2001年04月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 光ファイバ母材を加熱線引きする光ファイバの製造方法であって、
第1ガスからなる雰囲気にて前記光ファイバ母材を加熱線引きする線引き炉と、前記線引き炉との間に所定の間隙を有して設けられ、前記線引き炉にて前記線引きされた光ファイバを第2ガスからなる雰囲気にて加熱して徐冷する加熱炉と、を用い、
前記線引き炉と前記加熱炉との間の前記間隙を、前記第1ガス及び前記第2ガスが混在するガス混在層とし、
前記線引き炉にて前記線引きされた光ファイバを、前記ガス混在層を介して前記加熱炉に送り、
前記加熱炉において、前記線引きされた光ファイバを前記光ファイバの温度が1200〜1700°Cの範囲内の温度であるように加熱することを特徴とする光ファイバの製造方法。
IPC (3件)：
C03B 37/029 ( 200 6.01)
, C03B 37/027 ( 200 6.01)
, G02B 6/00 ( 200 6.01)
C03B 37/029
, C03B 37/027 A
, G02B 6/00 356 A
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示
前のページに戻る
