はんだ付けシステム

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小林将高
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-376751
公開番号（公開出願番号）：特開2003-179340
特許番号：特許第3897586号
出願日： 2001年12月11日
公開日（公表日）： 2003年06月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】誘導型電磁ポンプにより溶融状態のはんだを吹き口体へ供給して前記吹き口体の吹き口から噴流させることにより噴流波を形成し、プリント配線板を搬送手段で搬送して前記噴流波に接触させてはんだ付けを行うはんだ付けシステムにおいて、前記誘導型電磁ポンプを不活性ガス雰囲気に暴露しかつ冷却するかまたは冷却する不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、前記暴露と冷却に使用された不活性ガスを少なくとも前記噴流波と前記プリント配線板とを接触させる領域に供給して不活性ガス雰囲気を形成する不活性ガス雰囲気形成手段とを設けたことを特徴とするはんだ付けシステム。

IPC (4件)：

H05K 3/34 ( 200 6.01) , B23K 1/08 ( 200 6.01) , B23K 3/06 ( 200 6.01) , B23K 31/02 ( 200 6.01)

FI (5件)：

H05K 3/34 506 K , H05K 3/34 506 F , B23K 1/08 320 Z , B23K 3/06 D , B23K 31/02 310 B

引用特許：

出願人引用 (5件)

電磁誘導ポンプ式はんだ付け装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-263635 出願人：株式会社タムラ製作所
特開平1-157259
基板冷却装置およびろう付け装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-087349 出願人：株式会社タムラ製作所, 株式会社タムラエフエーシステム

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