特許
J-GLOBAL ID：201103003087433520
レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
石田 敬
, 吉田 維夫
, 戸田 利雄
, 西山 雅也
, 樋口 外治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-014479
公開番号（公開出願番号）：特開2000-212221
特許番号：特許第4144957号
出願日： 1999年01月22日
公開日（公表日）： 2000年08月02日
請求項（抜粋）：
【請求項1】2種類もしくはそれ以上のモノマーの共重合によって形成された共重合体であって、
(1)自体塩基性水溶液に不溶であり、但し、前記共重合体の第1のモノマー単位の側鎖に結合した、保護基で保護されたカルボキシル基からその保護基が酸の働きにより脱離した場合に、塩基性水溶液に可溶となり得、
(2)前記カルボキシル基の保護基が、次式(I)により表される酸無水物部分:
(上式において、
R1は、水素原子を表すかもしくは、アルキル基、アルコキシ基及びアルコキシカルボニル基からなる群から選ばれる1個もしくはそれ以上の置換基を表し、複数のR1置換基が含まれる場合には、それらの置換基は同一もしくは異なっていてもよく、
Lは、存在しないかもしくは1〜6個の炭素原子を有する直鎖もしくは分岐鎖の炭化水素基からなる結合基を表し、そして
nは1〜4の整数である)からなり、
(3)前記共重合体の第2のモノマー単位が、その側鎖に結合した、酸に対して不安定な保護基で保護された酸性官能基をさらに含有し、そして
(4)2,000〜1,000,000の重量平均分子量を有している酸感応性共重合体と、結像用放射線を吸収して分解すると前記第1のモノマー単位のカルボキシル基の保護基及び前記第2のモノマー単位の酸に対して不安定な保護基の脱離を惹起し得る酸を発生可能である光酸発生剤とを含んでなることを特徴とする、塩基性水溶液で現像可能なレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01)
, C08F 220/10 ( 200 6.01)
, C08F 8/04 ( 200 6.01)
G03F 7/039 601
, C08F 220/10
, C08F 8/04
