特許

J-GLOBAL ID：201103003219279275

セラミックシンチレータの製造方法、セラミックシンチレータ、シンチレータブロック、X線検出器およびX線CT撮像装置

発明者： 玉 谷 正 昭 ,  奥 村 美 和 ,  松 田 直 寿 ,  高 原 武 ,  福 田 幸 洋
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-275163
公開番号（公開出願番号）：特開2000-171563
特許番号：特許第3122438号
出願日： 1999年09月28日
公開日（公表日）： 2000年06月23日
請求項（抜粋）：

【請求項1】SO2およびSO3の少なくとも1種を生成するステップと、SO2およびSO3の少なくとも1種と希土類オキシ硫化物からなる焼結体とを900°C以上1200°C以下で反応させるステップと、前記ステップの反応により前記焼結体の表面に島状に分散された希土類酸化物相または希土類オキシ硫化物層を形成するステップと、を備えることを特徴とするセラミックシンチレータの製造方法。

IPC (5件)：

G01T 1/202 ,  C09K 11/00 ,  C09K 11/08 ,  C09K 11/84 CPD ,  G01T 1/20

FI (5件)：

G01T 1/202 ,  C09K 11/00 E ,  C09K 11/08 B ,  C09K 11/84 CPD ,  G01T 1/20 B

引用特許：

審査官引用 (1件)

• セラミックシンチレータ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-359890   出願人：株式会社東芝