特許
J-GLOBAL ID：201103003226322160
低分子量のスチレン系重合体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
池浦 敏明 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-192865
公開番号（公開出願番号）：特開平3-056509
特許番号：特許第2729257号
出願日： 1989年07月26日
公開日（公表日）： 1991年03月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】触媒としてのハロゲン化金属及び共触媒としての水を含むハロゲン化炭化水素溶媒に対して、該触媒量が全スチレン系単量体に対して0.01〜0.5重量%、該触媒に対する共触媒のモル比が5以上及び重合温度が30〜150°Cの条件下でスチレン系単量体を滴下しながら重合反応を行うとともに、全スチレン系単量体の滴下終了後、ハロゲン化金属からなる触媒を、該溶媒中に存在する触媒重量の少なくとも2倍でかつ全触媒量が全スチレン系単量体の0.15〜1.5重量%の割合になるように添加し、全触媒に対する共触媒のモル比が5以上及び重合温度が30〜150°Cの条件下でさらに重合反応を続けることを特徴とする低分子量のスチレン系重合体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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