特許
J-GLOBAL ID：201103003254182772
エマルジョンマスク等の欠陥修正方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡邊 敏
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-221725
公開番号（公開出願番号）：特開平11-125895
特許番号：特許第2989809号
出願日： 1989年06月06日
公開日（公表日）： 1999年05月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 エマルジョンマスク等のエマルジョン層に焼付けられた画像等におけるピンホール、欠損等の白欠陥の欠陥部に対し、欠陥部を含めた周辺に、除去可能な合成樹脂の付着防止層として、弱粘着性フィルムを貼り付け、この欠陥部に合わせてエキシマレーザーのような紫外線レーザービームを照射し、これによるレーザーアブレーションにより欠陥部と共に付着防止層を除去し、この除去した部分の欠陥部に、カーボンブラック等の黒色顔料の遮光性物質を塗布した後、この欠陥部の遮光性物質を残して付着防止層を剥離除去することにより、エマルジョン層の白欠陥を修正することを特徴とするエマルジョンマスク等の欠陥修正方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 W
, H01L 21/30 502 W
