特許

J-GLOBAL ID：201103003397208314

ノボラック型フェノール樹脂及びフォトレジスト用樹脂組成物

発明者： 真鳥 純
出願人/特許権者： 住友ベークライト株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-213891
公開番号（公開出願番号）：特開2011-063667
出願日： 2009年09月16日
公開日（公表日）： 2011年03月31日
要約：

【課題】 優れた耐熱性と良好な感度を併せもつフォトレジスト用樹脂組成物に用いることができるノボラック型フェノール樹脂と、これを用いたフォトレジスト用樹脂組成物を提供する。【解決手段】 フェノール類とジヒドロキシベンゼン及びその誘導体と2種類のアルデヒド類とを酸性触媒のもとで反応させて得られるノボラック型フェノール樹脂であって、フェノール類の組成がメタクレゾール50〜90重量%、パラクレゾール10〜50重量%で、2種類のアルデヒド類の内1種が芳香族ジアルデヒド、もう1種がホルムアルデヒドであることを特徴とするノボラック型フェノール樹脂。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

フェノール類とジヒドロキシベンゼン及びその誘導体と2種類のアルデヒド類とを酸性触媒のもとで反応させて得られるノボラック型フェノール樹脂であって、フェノール類の組成がメタクレゾール50〜90重量%、パラクレゾール10〜50重量%で、2種類のアルデヒド類の内1種が芳香族ジアルデヒド、もう1種がホルムアルデヒドであることを特徴とするノボラック型フェノール樹脂。

IPC (2件)：

C08G 8/22 ,  G03F 7/023

FI (2件)：

C08G8/22 ,  G03F7/023 511

Fターム (19件)：

2H125AF03P ,  2H125AM80P ,  2H125AN39P ,  2H125CA12 ,  2H125CA22 ,  2H125CB02 ,  2H125CC03 ,  2H125CC21 ,  2H125CD08P ,  2H125CD38 ,  4J033AA01 ,  4J033BA01 ,  4J033CA02 ,  4J033CA05 ,  4J033CA10 ,  4J033CA12 ,  4J033CA14 ,  4J033CB03 ,  4J033CC03