特許

J-GLOBAL ID：201103003456950429

脱硝装置のアンモニア注入量制御方法

発明者： 斎藤 英樹 ,  三宅 寿英 ,  市来 正義 ,  松本 信夫 ,  久野 碩享 ,  塩崎 秀喜
出願人/特許権者： 日立造船株式会社
代理人 (5件)： 岸本 瑛之助 ,  岸本 守一 ,  渡邊 彰 ,  日比 紀彦 ,  清末 康子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-009054
公開番号（公開出願番号）：特開2001-198438
特許番号：特許第4032205号
出願日： 2000年01月18日
公開日（公表日）： 2001年07月24日
請求項（抜粋）：

【請求項1】目標脱硝率、触媒入口温度および脱硝装置静特性より求められる基本モル比と、脱硝装置動特性を考慮して求められる補正モル比との和に基づいてアンモニア注入量を計算してフィードフォワード制御する脱硝装置のアンモニア注入量制御方法において、 補正モル比が、時間変化信号とゲイン関数発生器との積で計算されており、時間変化信号が式-log(1-目標脱硝率)を用いて計算され、ゲイン関数発生器が、触媒入口温度の関数とされていることを特徴とする脱硝装置のアンモニア注入量制御方法。

IPC (1件)：

B01D 53/94 ( 200 6.01)

FI (1件)：

B01D 53/36 101 A