特許

J-GLOBAL ID：201103003477121236

ホトマスクの欠陥検出方法及び装置

発明者： 寺澤 恒男 ,  長谷川 昇雄 ,  田中 稔彦 ,  福田 宏 ,  黒崎 利栄
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-262880
公開番号（公開出願番号）：特開平2-210250
特許番号：特許第3053097号
出願日： 1989年10月11日
公開日（公表日）： 1990年08月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】遮光膜と所定の波長成分に対して透過率が低い透明薄膜とを含み、前記所定の波長成分に対して透過率の高い透明基板を含む位相シフトマスクに前記所定の波長成分を有する光を照射するステップと、前記位相シフトマスクを透過した前記光の前記所定の波長成分の明暗情報を検出するステップと、前記位相シフトマスク上での前記透明薄膜の有無及び前記遮光膜の有無を前記明暗の情報に基づいて検出するステップとを有することを特徴とするホトマスクの欠陥検出方法。

IPC (4件)：

G01N 21/956 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66

FI (4件)：

G01N 21/956 A ,  G03F 1/08 S ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/30 502 V

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭62-067514