特許
J-GLOBAL ID：201103003564578579
薄膜磁気ヘッドの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三反崎 泰司 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-079201
公開番号（公開出願番号）：特開2000-276704
特許番号：特許第3373167号
出願日： 1999年03月24日
公開日（公表日）： 2000年10月06日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 磁気的に連結され、かつ記録媒体に対向する側の一部がギャップ層を介して対向する2つの磁極を含む少なくとも2つの磁性層と、これらの少なくとも2つの磁性層の間に絶縁層を介して配設された薄膜コイル部とを備えると共に、前記2つの磁性層のうちの一方の磁性層が、記録媒体に対向する記録媒体対向面から前記絶縁層における記録媒体に近い側の端縁部またはその近傍にかけて延在し記録媒体の記録トラックの幅を規定する一定幅を有する第1の磁性層部分と、第1の磁性層部分の幅よりも大きな幅を有し前記絶縁層の前記端縁部またはその近傍において前記第1の磁性層部分と磁気的に連結する第2の磁性層部分と、第2の磁性層部分に磁気的に連結されると共に前記第2の磁性層部分よりも大きな幅をもつ第3の磁性層部分と、第1の磁性層部分と第2の磁性層部分との連結部に形成された幅方向の段差とを有する薄膜磁気ヘッドを製造するための方法であって、前記第1の磁性層部分および第2の磁性層部分の形状に対応する形状を有すると共に前記連結部の段差に対応するコーナー部分に露光を抑制するための凹部パターンを有する遮光マスクを用い、かつ、露光された領域が残存することとなるネガティブ型のフォトレジストを用いて、フォトリソグラフィ処理を行い、フォトレジストパターンを形成する工程と、形成されたフォトレジストパターンを用いて前記一方の磁性層を選択的に形成する工程とを含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
G11B 5/31 D
, G11B 5/31 C
