特許

J-GLOBAL ID：201103003670090941

ポリチオフェン

発明者： シユテフアン・キルヒマイアー ,  クラウス・ブソウ ,  フリードリヒ・ヨナス ,  アンドレアス・エルシユナー
出願人/特許権者： エイチ・シー・スタルク・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング
代理人 (2件)： 特許業務法人小田島特許事務所 ,  小田島 平吉
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-355941
公開番号（公開出願番号）：特開2002-206022
特許番号：特許第4163867号
出願日： 2001年11月21日
公開日（公表日）： 2002年07月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 a)一般式(I) 式中、R1は1〜10個の炭素原子を有する未置換のもしくは置換されたアルキレン又はアルケニレン基であり、そして R及びR2は互いに独立に水素、1〜20個の炭素原子を有する線状もしくは分岐状アルキル基、OH、O-CH2-CH2-CH2-SO3H、又は1〜18個の炭素原子を有するO-アルキルである、 で示される1種又はそれ以上のチオフェン、 b)1個又はそれ以上のスルホン酸基を含有する少なくとも1種の化合物、 c)少なくとも1種の酸化剤、 d)少なくとも1種の相間移動触媒、及び e)所望により、塩化鉄(III)、硫酸鉄(III)、トルエンスルホン酸鉄(III)、二酸化マンガン及びマンガン(II)塩よりなる群から選ばれる1種又はそれ以上の触媒、 を少なくとも1種の無水溶媒又は水5重量%までを含有する低含水率溶媒中で0〜150°Cの温度で反応させ、次いで生成物を脱塩処理することを特徴とするポリチオフェンの製造方法。

IPC (3件)：

C08G 61/12 ( 200 6.01) ,  C09D 5/24 ( 200 6.01) ,  C09D 165/00 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C08G 61/12 ,  C09D 5/24 ,  C09D 165/00

引用特許：

審査官引用 (2件)

• コンデンサおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-118928   出願人：松下電器産業株式会社
• 特開平1-313521
  

引用文献：

審査官引用 (1件)

• MOLECULAR CRYSTALS AND LIQUID CRYSTALS, 1998, 第327巻, 237-240頁