特許

J-GLOBAL ID：201103003782843896

三次元造型方法

発明者： 奥田 哲太郎
出願人/特許権者： アルテック株式会社
代理人 (1件)： 小松 純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-169214
公開番号（公開出願番号）：特開2011-020412
出願日： 2009年07月17日
公開日（公表日）： 2011年02月03日
要約：

【課題】モデル材に溶着しているサポート材を迅速・簡易に除去し、耐環境性に優れ、取り扱いの安全性にも優れる三次元造型方法を提供することを技術的な課題とする。【解決手段】本発明は、立体形状モデルの断面形状データよりマスクパターンを積層し立体物を造形する三次元造型方法であって、マスクパターンに則してモデル材とサポート材とによって積層形成し立体物を形成した後、該立体物に電解質溶液を付着することによって立体物から不要なサポート材を除去する三次元造型方法である。電解質溶液としては、少なくとも炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドのいずれか一又は二以上を含有するのが好適である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

立体物を造形する三次元造型方法であって、立体形状モデルの断面形状マスクパターンに則してモデル材とサポート材とを積層し立体物を造形した後、当該立体物に電解質溶液を付着させることによって当該立体物から前記サポート材を除去することを特徴とする三次元造型方法。

IPC (1件)：

B29C 67/00

FI (1件)：

B29C67/00

Fターム (10件)：

4F213AA44 ,  4F213AB04 ,  4F213WA25 ,  4F213WA54 ,  4F213WA62 ,  4F213WB01 ,  4F213WL02 ,  4F213WL12 ,  4F213WL62 ,  4F213WL95