特許
J-GLOBAL ID：201103004099411235

艶消し多層ポリスチレン系熱収縮フイルム

発明者：
佐谷 昭一

佐谷 昭一 について

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増山 正信

増山 正信 について

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吉岡 至明

吉岡 至明 について


出願人/特許権者：
シーアイ化成株式会社

シーアイ化成株式会社 について


公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-019509
公開番号（公開出願番号）：特開2000-211072
特許番号：特許第4357021号
出願日： 1999年01月28日
公開日（公表日）： 2000年08月02日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基材層がブタジエン単位含有量少なくとも15重量%のスチレン-ブタジエン-スチレン型ブロック共重合体を主体とする透明ポリスチレン系樹脂85〜100重量%と耐衝撃性ポリスチレン15〜0重量%との混合物からなり、該基材層の少なくとも片面にブタジエン単位含有量少なくとも15重量%のスチレン-ブタジエン-スチレン型ブロック共重合体を主体とする透明ポリスチレン系樹脂40〜80重量%と耐衝撃性ポリスチレン60〜20重量%との混合物からなる被覆層を有し、全体の厚みに対する基材層の割合が50〜90%であり、該被覆層面のグロスが50%以下であることを特徴とする艶消し多層ポリスチレン系熱収縮フイルムであって、さらに内部ヘーズ、すなわち該多層フイルムの両面に流動パラフィンを均一に塗布した状態でJIS-K7105に準拠して測定したn=5の平均値が3%未満である艶消し多層ポリスチレン系熱収縮フイルム。
IPC (2件)：
B32B 27/30 ( 200 6.01) ,  C08J 5/18 ( 200 6.01)
FI (2件)：
B32B 27/30 B ,  C08J 5/18 CET
引用特許：
審査官引用 (3件)

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