特許

J-GLOBAL ID：201103004120671145

塗布膜の乾燥方法及び装置

発明者： 沖 和宏
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-389714
公開番号（公開出願番号）：特開2003-170101
特許番号：特許第3968505号
出願日： 2001年12月21日
公開日（公表日）： 2003年06月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 走行する帯状可撓性支持体に塗布液を塗布手段により塗布し、塗布直後の走行位置に塗布液中の溶媒を凝縮、回収させるドライヤを配設する塗布膜の乾燥方法において、 前記ドライヤには、前記帯状可撓性支持体の上方に、帯状可撓性支持体と所定距離をおいて略平行に板状部材である凝縮板を配設するとともに、該凝縮板を帯状可撓性支持体の走行方向に向かって上方に15度以上傾斜させ、 前記帯状可撓性支持体と前記凝縮板との距離が0.01〜200mmであり、 前記帯状可撓性支持体の走行速度は、前記帯状可撓性支持体が前記塗布手段による塗布後30秒以内に前記ドライヤに到達する速度であることを特徴とする塗布膜の乾燥方法。

IPC (6件)：

B05C 9/14 ( 200 6.01) ,  B05D 3/02 ( 200 6.01) ,  F26B 3/30 ( 200 6.01) ,  F26B 3/347 ( 200 6.01) ,  F26B 13/08 ( 200 6.01) ,  G11B 5/842 ( 200 6.01)

FI (6件)：

B05C 9/14 ,  B05D 3/02 D ,  F26B 3/30 ,  F26B 3/347 ,  F26B 13/08 A ,  G11B 5/842 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 被覆基材乾燥システム
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平9-512750   出願人：ミネソタ・マイニング・アンド・マニュファクチャリング・カンパニー
• ベースフィルムの除塵方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-191304   出願人：富士写真フイルム株式会社