特許

J-GLOBAL ID：201103004250333551

測定装置及び測定方法

発明者： 早川 慎二郎
出願人/特許権者： 国立大学法人広島大学
代理人 (4件)： 木村 満 ,  末次 渉 ,  鶴 寛 ,  毛受 隆典
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-181704
公開番号（公開出願番号）：特開2011-033537
出願日： 2009年08月04日
公開日（公表日）： 2011年02月17日
要約：

【課題】一般的なX線源を用いて、高精度なXAFS測定を行う。【解決手段】X線源2は、少なくとも所定のエネルギ帯域の成分を含むX線を放射する。集光素子3は、X線源2から放射されたX線を集光する。試料台4は、集光素子3によるX線の集光位置Fに対して、サンプル10を進入退避可能に載置する。分光結晶5は、集光位置Fから発散するX線を斜入射することにより、そのX線を分光する。検出装置6は、分光結晶5により分光されたX線の強度分布を検出する。演算装置7は、検出装置6によって検出された強度分布に基づいて、サンプル10のX線吸収スペクトルを演算により求める。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

少なくとも所定のエネルギ帯域の成分を含むX線を放射するX線源と、 前記X線源から放射されたX線を集光する集光素子と、 前記集光素子によるX線の集光位置に対して、サンプルを進入退避可能に載置する試料台と、 前記集光位置から発散するX線を斜入射することにより、そのX線を分光する分光結晶と、 前記分光結晶により分光されたX線の強度分布を検出する位置敏感X線検出器と、 を備える測定装置。

IPC (1件)：

G01N 23/06

FI (1件)：

G01N23/06

Fターム (14件)：

2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001BA13 ,  2G001CA01 ,  2G001DA09 ,  2G001EA01 ,  2G001EA06 ,  2G001KA12 ,  2G001LA11 ,  2G001MA07 ,  2G001NA11 ,  2G001NA17 ,  2G001PA11 ,  2G001SA01

引用特許：

審査官引用 (4件)

• X線吸収分光装置および方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-361475   出願人：日本電信電話株式会社
• X線吸収微細構造分析方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-307345   出願人：理学電機株式会社
• X線複合分析装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-186714   出願人：株式会社日立製作所
• X線吸収微細構造分析装置及びK吸収端差分法を用いたX線CT装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-085994   出願人：株式会社リコー

引用文献：

審査官引用 (4件)

• “Soft x-ray beam line for surface EXAFS studies in the energy range 60≦hν≦11 100 eV at the Dares
• “2.B X-Ray Imaging with Kirkpatrick-Baez Microscopes”
• “Characterization of a polycapillary focusing X-ray lens for application in spatially resolved EXAF
• “2.B X-Ray Imaging with Kirkpatrick-Baez Microscopes”