特許
J-GLOBAL ID：201103004361332309
ニトロフェニルフェノール化合物の製造法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
遠山 勉
, 松倉 秀実
, 川口 嘉之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-294325
公開番号（公開出願番号）：特開2001-055360
特許番号：特許第4203192号
出願日： 1999年10月15日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】一般式(1)で示されるニトロフェノール化合物を製造する方法であって、
一般式(2)
(式中、Xはハロゲン原子を示す)で表される化合物と、
一般式(3)
(式中、nは0〜1の整数を示す)で表されるホウ素化合物、または、
一般式(4)
で表されるホウ素化合物とを
水、トルエン、ジメチルホルムアミド、アセトン、ジメトキシエタン、メタノール、テトラヒドロフランおよびジオキサンからなる群から選ばれる1または2種類以上からなる溶媒中で、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウムおよびトリアルキルアミンから成る群から選ばれる1または2種類以上からなる塩基性化合物およびテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(O)である触媒の存在下で反応させて、一般式(5)
で表される化合物を得る工程と、
濃度60%-80%である希硫酸を触媒として、フェノール水酸基の保護基であるt-ブチル基の脱保護反応により、化合物(5)から化合物(1)を得る工程とを含むことを特徴とする方法。
IPC (6件)：
C07C 201/12 ( 200 6.01)
, C07C 205/20 ( 200 6.01)
, C07C 205/35 ( 200 6.01)
, C07F 5/02 ( 200 6.01)
, B01J 31/24 ( 200 6.01)
, C07B 61/00 ( 200 6.01)
C07C 201/12
, C07C 205/20
, C07C 205/35
, C07F 5/02 C
, B01J 31/24 X
, C07B 61/00 300
