特許
J-GLOBAL ID：201103004672956098
ヒドロキシアルキルアミン化合物の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-179467
公開番号（公開出願番号）：特開2001-354632
特許番号：特許第4290319号
出願日： 2000年06月15日
公開日（公表日）： 2001年12月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】(A)下記式(1):
【化1】
X1-O-R1-C(R2)=CH2 (1)
(式中、R1はアルキレン基を表し、R2は水素原子またはメチル基を表し、X1は水酸基の保護基を表す)
で示されるオレフィン性化合物を、第3級有機リン化合物およびロジウム化合物の存在下に、水素および一酸化炭素と反応させることにより、下記式(2):
【化2】
X1-O-R1-CH(R2)-CH2CH=O (2)
(式中、R1、R2およびX1は前記定義のとおりである)
で示されるアルデヒド化合物を得、
(B)該アルデヒド化合物を、水素添加触媒の存在下に、下記式(3):
【化3】
H-N(R3)-R4 (3)
(式中、R3およびR4はそれぞれ水素原子、置換基を有していてもよい1価の飽和炭化水素基もしくは置換基を有していてもよい1価の芳香族基を表すか、またはR3およびR4が互いに結合して置換基を有していてもよい2価の飽和脂肪族基を表す)
で示される含窒素化合物および水素と反応させることにより、下記式(4):
【化4】
X2-O-R1-CH(R2)-CH2CH2-N(R3)-R4 (4)
(式中、X2は水素原子または水酸基の保護基を表し、R1、R2、R3およびR4は前記定義のとおりである)
で示されるアミン化合物またはその等価物を含む反応生成物を得、
(C)次いで、必要に応じ、上記(B)で得られた反応生成物に対して脱保護反応を行う、
ことを特徴とする、下記式(5):
【化5】
HO-R1-CH(R2)-CH2CH2-N(R3)-R4 (5)
(式中、R1、R2、R3およびR4は前記定義のとおりである)
で示されるヒドロキシアルキルアミン化合物の製造方法。
IPC (3件)：
C07C 213/02 ( 200 6.01)
, C07C 215/08 ( 200 6.01)
, C07B 61/00 ( 200 6.01)
C07C 213/02
, C07C 215/08
, C07B 61/00 300
